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Por Antonio Rodríguez
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infozonamovilidades/4/4/18
lunes 08 de enero de 2024, 09:00h

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ASML e Intel han anunciado la última fase de su colaboración para avanzar en la tecnología de litografía de semiconductores con la compra a ASML del sistema TWINSCAN EXE:5200, el primer sistema de producción de volumen extremo ultravioleta (EUV).

Este anuncio representa la primera entrega mundial de máquinas de este tipo, siendo ASML la única empresa con la tecnología necesaria para su desarrollo. La colaboración entre Intel y ASML, sellada en enero de 2022, ha culminado en la adquisición de esta innovadora. La expectativa de Intel es alcanzar una impresionante capacidad de hasta 200 obleas por hora con un sistema de lentes que posee una apertura de 0,55 NA (apertura numérica). Este valor representa un salto significativo con respecto al estándar actual de 0,33 NA utilizado en la maquinaria TwinScan EXE:5000.

La introducción de estas máquinas High-NA EUV permitirá la reducción adicional de los nanómetros de los transistores que conforman los chips, generando un incremento sustancial en la densidad, rendimiento y eficiencia de los mismos.

Intel tiene la ambiciosa meta de fabricar los primeros chips utilizando esta nueva maquinaria de 0,55 NA en el año 2025. De acuerdo con su hoja de ruta, este lanzamiento marcará la inauguración del nuevo proceso Intel 18A. Con este avance, la compañía busca posicionarse nuevamente como líder en el mercado de la fabricación de chips, superando a competidores como TSMC y Samsung.

El salto tecnológico representa un compromiso continuo por parte de Intel para cumplir con la "Ley de Moore", multiplicando la densidad de los chips con sucesivas generaciones, manteniéndose a la vanguardia de la innovación en la industria de semiconductores.

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