El CEO de ASML, Christophe Fouquet, defiende que limitar en exceso el acceso de China a la tecnología puede acelerar el desarrollo de alternativas propias a las máquinas de litografía más avanzadas.
ASML ocupa una posición difícil de replicar dentro de la industria mundial de semiconductores. La compañía neerlandesa controla por completo el mercado de las máquinas de litografía ultravioleta extrema (EUV), equipos esenciales para fabricar los chips más avanzados que sustentan el desarrollo de la inteligencia artificial. Sin embargo, su CEO, Christophe Fouquet, advierte que las restricciones tecnológicas a China pueden terminar por erosionar esa ventaja si fuerzan al país asiático a desarrollar su propia tecnología.
La relevancia de ASML ha crecido en paralelo al auge de la IA y ya alcanza una valoración de 591.000 millones de euros después de que sus acciones hayan subido un 88% durante el último año. Fouquet considera que el mercado ha terminado por comprender la cadena tecnológica que existe detrás de compañías como Nvidia y TSMC: los chips diseñados para IA necesitan fábricas capaces de producirlos y estas, a su vez, dependen de las máquinas EUV de ASML. “De repente, todo el mundo se da cuenta de que solo hay una empresa, ASML, que fabrica esas máquinas”, resume el directivo en una entrevista con Financial Times.
Máquinas de 400 millones de dólares y más de 100.000 piezas
La barrera que protege esta posición está fundamentalmente en la complejidad tecnológica. Una máquina EUV cuesta alrededor de 400 millones de dólares y tiene unas dimensiones comparables a las de un autobús de dos pisos. El sistema permite imprimir circuitos sobre obleas de silicio mediante espejos, láseres y luz de onda corta, con un proceso que utiliza 60.000 gotas de estaño fundido por segundo.
Además, cada equipo incorpora más de 100.000 componentes suministrados por 200 proveedores principales y unas 2.000 empresas en total. Esa cadena limita la capacidad de ASML para elevar rápidamente su producción, pero también constituye una de las principales barreras para cualquier competidor que pretenda replicar su tecnología.
“Si pudiera poner unos cuantos miles de millones y conseguir un 20% más de capacidad, lo haría. Pero debido a la cadena de suministro, es mucho más complejo”
En este sentido, ASML ha optado por recurrir a especialistas para algunas de las piezas más complejas: Zeiss proporciona la óptica, Trumpf los láseres y VDL la mecatrónica. Este modelo permitió avanzar en EUV mientras competidores como Nikon y Canon permanecieron centrados en la generación anterior de litografía ultravioleta profunda (DUV).
Fouquet descarta que aumentar la capacidad sea simplemente una cuestión financiera. “Si pudiera poner unos cuantos miles de millones y conseguir un 20% más de capacidad, lo haría. Pero debido a la cadena de suministro, es mucho más complejo”, explica.
El efecto de las restricciones a China
El principal foco de tensión para ASML se encuentra precisamente en China, después de que Estados Unidos haya impulsado restricciones que impiden exportar al país las máquinas EUV, los equipos más avanzados y rentables de la compañía. Washington ha presionado a la Unión Europea y al Gobierno neerlandés para limitar estas ventas.
Sobre este asunto, Fouquet acepta que determinadas tecnologías pueden estar sujetas a controles por razones legítimas, pero cuestiona hasta dónde deben llegar esas restricciones. “Si vamos demasiado lejos, vamos a crear los resultados opuestos a los que intentamos conseguir”, advierte.
El argumento es que una limitación excesiva puede acelerar el desarrollo tecnológico chino hasta convertir a empresas del país en nuevos competidores. Huawei, de hecho, ya se ha convertido en un actor relevante dentro de los esfuerzos de China por desarrollar máquinas DUV.
“Si se restringe demasiado, se genera desesperación. Y la desesperación crea un enorme apetito para que la gente acelere su propia tecnología"
“Si se restringe demasiado, se genera desesperación. Y la desesperación crea un enorme apetito para que la gente acelere su propia tecnología y, potencialmente, en algún momento, se convierta en un fuerte competidor”, sostiene Fouquet. El CEO dirige este mensaje principalmente al Gobierno neerlandés y a la Unión Europea, responsables últimos de las decisiones sobre las exportaciones de ASML.
Más allá de las tensiones geopolíticas, ASML tampoco comparte la tesis de que la expansión actual de la inteligencia artificial responda únicamente a una burbuja de corto recorrido. Fouquet estima que el impacto de esta tecnología sobre la sociedad y la industria se prolongará entre 10 y 15 años.
“Solo estamos viendo la punta del iceberg”, afirma. Durante ese periodo, ASML espera que la litografía EUV continúe su evolución mediante circuitos de transistores apilados y mayores aperturas de los espejos para concentrar la luz con más precisión.
La compañía conoce bien los plazos que exige una transformación de este calibre, puesto que el desarrollo de EUV necesitó alrededor de dos décadas y llegó a poner en riesgo a la propia ASML. Fouquet extrae de aquella experiencia una conclusión para las próximas grandes tecnologías: la innovación más compleja requiere concentración de recursos y una apuesta sostenida durante años.
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